Objectif industriel à double ligne de balayage 4096*2 50 mm, Φ30, 5 μm, objectif de vision industrielle ultra-net

Cet objectif industriel à focale fixe de 50 mm, de haute précision, est optimisé pour les capteurs double ligne 4096×2 à pas de pixel de 5 µm, avec un grand cercle image de Φ30 mm. Il adopte une conception à double monture : interface native M42×P1, compatible avec le M58 via un adaptateur pour une intégration flexible.

Avec une distorsion ultra-faible (<0.03%), une MTF élevée sur tout le champ high="" full-field="" mtf="">45% @ 50 lp/mm) et un éclairement relatif uniforme ≥95%, l'objectif offre une netteté constante du centre aux bords et une imagerie planaire précise. La structure entièrement métallique, dotée de revêtements AR nano multicouches sur verre massif, garantit une suppression des images fantômes de –42 dB, une résistance aux vibrations et un fonctionnement industriel continu 24/7 stable.

Avantages clés

1. Haute résolution au niveau du 1,5 µm : elle libère pleinement la précision des capteurs de 5 µm et identifie clairement les défauts inférieurs à 10 µm tels que micro-rayures, piqûres, irrégularités de revêtement et microfissures, pour une détection AOI et une mesure dimensionnelle fiables.

2. Focale longue de 50 mm à haute fidélité : elle supprime efficacement la distorsion de perspective et la courbure de champ, évitant le flou de bord et la dérive d'échelle courants avec les objectifs à courte focale, et garantit une imagerie précise et stable à moyenne et longue distance de travail.

3. Optimisation dédiée aux barrettes double ligne : conçue pour les caméras double ligne 4096×2, elle prend en charge le balayage linéaire à grande vitesse ≥12 kHz avec un taux d'utilisation de pixel élevé, sans vignetage ni image fantôme entre les lignes.

4. Compatibilité double interface : couvre les caméras industrielles compactes M42 et les systèmes de vision grand format M58, réduisant les coûts d'intégration et améliorant la polyvalence des équipements.

5. Excellente uniformité lumineuse : écart d'éclairement sur tout le champ ≤±2,5%, pour une imagerie stable sur les matériaux très réfléchissants, notamment la feuille de cuivre, les plaquettes de silicium et les substrats de verre.

Applications principales

•Industrie des batteries au lithium : inspection des défauts de la feuille d'électrode, du séparateur et du revêtement

•Photovoltaïque et semi-conducteurs : détection des microfissures, des défauts de surface et des dimensions des plaquettes

•Impression de haute précision : contrôle qualité en ligne des films, du laminage et de l'impression anticontrefaçon

•Pièces mécaniques : inspection de la planéité, de la tolérance d'alésage et de l'état de surface

•Tri intelligent de matériaux et recherche en vision de haute précision en laboratoire