Lente industrial de escaneo lineal dual 4096*2 de 50 mm, Φ30, lente de visión artificial ultranítida de 5 μm

Este objetivo industrial fijo de 50 mm de alta precisión para escaneo lineal está optimizado para sensores de doble línea de 4096×2 con un paso de píxel de 5 µm, y ofrece un círculo de imagen grande de Φ30 mm. Adopta un diseño de montura doble: interfaz nativa M42×P1, compatible con M58 mediante adaptador para una integración flexible.

Con una distorsión ultrabaja (<0.03%), high="" full-field="" mtf="">45% @ 50 lp/mm) y una iluminación relativa uniforme ≥95%, el objetivo proporciona una nitidez constante de centro a borde y una imagen planar precisa. La estructura totalmente metálica con recubrimientos AR nano de múltiples capas sobre vidrio completo garantiza una supresión de imágenes fantasma de –42 dB, resistencia a las vibraciones y un funcionamiento industrial continuo y estable 24/7.

Ventajas principales

1.Resolución alta de nivel 1.5 μm Libera por completo la precisión de los sensores de 5 μm e identifica con claridad defectos inferiores a 10 μm, como micro arañazos, poros, irregularidades del recubrimiento y microfisuras, para una detección AOI y una medición dimensional fiables.

2.Enfoque largo de 50 mm y alta fidelidad Suprime eficazmente la distorsión de perspectiva y la curvatura de campo, evitando el desenfoque en los bordes y las desviaciones de escala habituales en los objetivos de focal corta, y garantizando una imagen precisa y estable a distancias de trabajo medias y largas.

3.Optimización dedicada a sensores de doble línea Diseñado para cámaras de doble línea de 4096×2, admite escaneo lineal de alta velocidad de ≥12 kHz con un alto aprovechamiento de píxel, sin viñeteado ni imágenes fantasma entre líneas.

4.Compatibilidad de interfaz doble Abarca cámaras industriales compactas M42 y sistemas de visión de gran formato M58, lo que reduce los costes de integración y mejora la versatilidad del equipo.

5.Excelente uniformidad de iluminación Desviación de irradiancia en todo el campo ≤±2.5%, con imágenes estables en materiales de alta reflectividad como lámina de cobre, obleas de silicio y sustratos de vidrio.

Aplicaciones principales

•Sector de baterías de litio: inspección de defectos en lámina de electrodo, separador y recubrimiento

•Fotovoltaica y semiconductores: detección de microfisuras en obleas, defectos superficiales y medición dimensional

•Impresión de alta precisión: control de calidad en línea de película, laminado e impresión antifalsificación

•Piezas mecánicas: inspección de planitud, tolerancia de orificios y textura superficial

•Clasificación inteligente de materiales e investigación de visión de alta precisión en laboratorio