Objectif industriel 14mm, cercle image Φ43mm, 8K, faible distorsion

Cet objectif industriel fixe de haute précision 50 mm pour balayage ligne est optimisé pour les capteurs double ligne 4096×2 à pas de pixel de 5 µm, avec un grand cercle image de Φ30 mm. Il adopte une conception à double monture : interface native M42×P1, compatible avec M58 via adaptateur pour une intégration flexible.

Avec une distorsion ultra-faible (<0.03%), high="" full-field="" mtf="">45 % @ 50 lp/mm) et un éclairement relatif uniforme ≥95 %, l'objectif offre une netteté constante du centre aux bords et une imagerie planaire précise. La structure tout métal avec revêtements AR nano multicouches en verre massif assure une suppression des images fantômes de –42 dB, une résistance aux vibrations et un fonctionnement industriel continu 24/7 stable.

Avantages clés

•1.Haute résolution de niveau 1,5 μm Libère pleinement la précision des capteurs 5 μm et identifie clairement les défauts inférieurs à 10 μm tels que micro-rayures, piqûres, irrégularités de revêtement et micro-fissures, pour une détection AOI et une mesure dimensionnelle fiables.

•2.Fidélité élevée à focale longue de 50 mm Supprime efficacement la distorsion de perspective et la courbure de champ, évitant le flou de bord et la dérive d'échelle fréquents avec les objectifs à courte focale, et garantissant une imagerie précise et stable à moyennes et longues distances de travail.

•3.Optimisation dédiée aux capteurs double ligne Conçu pour les caméras double ligne 4096×2, prenant en charge le balayage ligne à grande vitesse ≥12 kHz avec une utilisation élevée des pixels, sans vignetage ni image fantôme entre les lignes.

•4.Compatibilité double interface Couvre les caméras industrielles compactes M42 et les systèmes de vision grand format M58, réduisant les coûts d'intégration et améliorant la polyvalence de l'équipement.

•5.Excellente uniformité lumineuse Écart d'éclairement sur tout le champ ≤±2,5 %, imagerie stable pour les matériaux à forte réflexion, notamment feuille de cuivre, wafers de silicium et substrats de verre.

Applications principales

•Industrie des batteries au lithium : inspection des défauts de feuille d'électrode, de séparateur et de revêtement

•Photovoltaïque et semi-conducteurs : détection des micro-fissures sur wafers, des défauts de surface et des dimensions

•Impression de haute précision : contrôle qualité en ligne de l'impression sur film, du pelliculage et de l'impression de sécurité

•Pièces mécaniques : contrôle de la planéité, de la tolérance d'ouverture et de la texture de surface

•Tri intelligent de matériaux et recherche en vision de haute précision en laboratoire