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Chengdu Josight Optics Co., Ltd

Lente Industrial 14mm Φ43mm Círculo de Imagem 8K com Baixa Distorção

Lente M42 de 14mm com Baixa Distorção para Câmera de Varredura Linear 8K

Especificação de Lente Industrial 14mm Φ43mm Círculo de Imagem 8K com Baixa Distorção

Esta lente industrial fixa de varredura linear de alta precisão de 50 mm é otimizada para sensores de linha dupla de 4096×2 com passo de pixel de 5 µm, apresentando um grande círculo de imagem de Φ30 mm. Adota um design de montagem dupla: interface nativa M42×P1, compatível com M58 por meio de adaptador para uma integração flexível.

Com distorção ultrabaixa (<0.03%), alto="" full-field="" mtf="">45% @ 50 lp/mm) e iluminação relativa uniforme ≥95%, a lente proporciona nitidez consistente do centro às bordas e imageamento planar preciso. A estrutura totalmente metálica com revestimentos AR nano multicamadas de vidro maciço garante supressão de fantasmas de –42 dB, resistência à vibração e operação industrial contínua 24/7 estável.

Principais Vantagens

•1. Alta resolução em nível de 1,5 μm Libera totalmente a precisão dos sensores de 5 μm, identificando claramente defeitos abaixo de 10 μm, como microarranhões, furos de alfinete, irregularidades de revestimento e microtrincas, para detecção AOI confiável e medição dimensional.

•2. Foco longo de 50 mm com alta fidelidade Suprime efetivamente a distorção de perspectiva e a curvatura de campo, evitando o desfoque nas bordas e o desvio de escala comuns em lentes de foco curto, garantindo imageamento preciso e estável em distâncias de trabalho médias e longas.

•3. Otimização dedicada para matriz de linha dupla Desenvolvida para câmeras de linha dupla 4096×2, com suporte a varredura linear de alta velocidade ≥12 kHz, alta utilização de pixels, sem vinhetagem nem ghosting entre linhas.

•4. Compatibilidade de interface dupla Abrange câmeras industriais compactas M42 e sistemas de visão de grande formato M58, reduzindo os custos de integração e melhorando a versatilidade do equipamento.

•5. Excelente uniformidade de luz Desvio de irradiância em campo total ≤±2,5%, imageamento estável para materiais de alta reflexão, incluindo folha de cobre, wafers de silício e substratos de vidro.

Principais Aplicações

•Indústria de baterias de lítio: inspeção de defeitos em folha de eletrodo, separador e revestimento

•Fotovoltaica e semicondutores: detecção de microtrincas, defeitos de superfície e dimensões em wafers

•Impressão de alta precisão: monitoramento de qualidade em linha de filmes, laminação e impressão anticontrafação

•Peças mecânicas: inspeção de planicidade, tolerância de furos e textura superficial

•Triagem inteligente de materiais e pesquisa laboratorial de visão de alta precisão

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