14 mm Φ43 mm Bildkreis 8K verzerrungsarmes Industrieobjektiv

Verzerrungsarmes M42-Objektiv mit 14 mm für 8K-Zeilenkamera

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14 mm Φ43 mm Bildkreis 8K verzerrungsarmes Industrieobjektiv

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Spezifikation von 14 mm Φ43 mm Bildkreis 8K verzerrungsarmes Industrieobjektiv

Dieses industrielle hochpräzise 50-mm-Festbrennweiten-Zeilenkamera-Objektiv ist für 4096×2-Dual-Line-Sensoren mit 5 µm Pixelabstand optimiert und bietet einen großen Bildkreis von Φ30 mm. Es verfügt über ein duales Montagedesign: native M42×P1-Schnittstelle, über Adapter kompatibel mit M58 für eine flexible Integration.

Mit extrem niedriger Verzerrung (<0,03 %), hoher="" vollfeld="" mtf="">45 % @ 50 lp/mm) und ≥95 % gleichmäßiger relativer Ausleuchtung liefert das Objektiv eine konstante Schärfe von der Mitte bis zum Rand und eine präzise planare Abbildung. Die Ganzmetallkonstruktion mit mehrschichtigen Nano-AR-Beschichtungen aus Vollglas sorgt für –42 dB Geisterbildunterdrückung, Vibrationsfestigkeit und einen stabilen 24/7-Dauerbetrieb in der Industrie.

Kernvorteile

•1.Hochauflösung im 1,5-μm-Bereich: Schöpft die Präzision von 5-μm-Sensoren voll aus und erkennt klar Defekte unter 10 μm wie Mikrokratzer, Nadelstiche, Beschichtungsungleichmäßigkeiten und feine Risse für zuverlässige AOI-Prüfung und Maßmessung.

•2.Hohe Abbildungstreue bei 50 mm langbrennweitiger Optik: Unterdrückt effektiv Perspektivverzerrung und Bildfeldwölbung, vermeidet Randunschärfe und Maßstabsabweichungen, die bei kurzbrennweitigen Objektiven üblich sind, und gewährleistet eine präzise und stabile Abbildung bei mittleren und langen Arbeitsabständen.

•3.Spezielle Optimierung für Dual-Line-Arrays: Zugeschnitten auf 4096×2-Dual-Line-Kameras, unterstützt ≥12 kHz Hochgeschwindigkeits-Zeilenabtastung mit hoher Pixelausnutzung, ohne Vignettierung oder Geisterbilder zwischen den Zeilen.

•4.Kompatibilität mit zwei Schnittstellen: Deckt kompakte M42-Industriekameras und M58-Großformat-Visionsysteme ab, senkt die Integrationskosten und erhöht die Gerätevielfalt.

•5.Hervorragende Lichtgleichmäßigkeit: Vollfeld-Bestrahlungsabweichung ≤±2,5 %, stabile Abbildung bei stark reflektierenden Materialien wie Kupferfolie, Siliziumwafern und Glassubstraten.