Objetivo industrial de 14 mm con círculo de imagen de Φ43 mm, 8K y baja distorsión

Este objetivo industrial de línea de escaneo fijo de 50 mm y alta precisión está optimizado para sensores de doble línea de 4096×2 con un paso de píxel de 5 µm, y ofrece un gran círculo de imagen de Φ30 mm. Adopta un diseño de doble montura: interfaz nativa M42×P1, compatible con M58 mediante adaptador para una integración flexible.

Con una distorsión ultra baja (<0,03%), una alta mtf="" full-field="" high="">45% @ 50 lp/mm) y una iluminación relativa uniforme de ≥95%, el objetivo ofrece una nitidez homogénea de centro a borde y una imagen planar precisa. La estructura totalmente metálica con recubrimientos AR nano multicapa de vidrio completo garantiza una supresión de imágenes fantasma de –42 dB, resistencia a las vibraciones y un funcionamiento industrial continuo y estable 24/7.

Ventajas principales

•1.Resolución alta a nivel de 1,5 μm: libera todo el potencial de precisión de los sensores de 5 μm e identifica con claridad defectos inferiores a 10 μm, como microarañazos, picaduras, irregularidades de recubrimiento y microfisuras, para una detección AOI y una medición dimensional fiables.

•2.Focal larga de 50 mm con alta fidelidad: suprime eficazmente la distorsión de perspectiva y la curvatura de campo, evitando el desenfoque en los bordes y las desviaciones de escala habituales en los objetivos de focal corta, y garantiza una imagen precisa y estable a distancias de trabajo medias y largas.

•3.Optimización dedicada a matrices de doble línea: diseñado específicamente para cámaras de doble línea de 4096×2, admite escaneo lineal de alta velocidad de ≥12 kHz con un alto aprovechamiento del píxel, sin viñeteado ni imágenes fantasma entre líneas.

•4.Compatibilidad de doble interfaz: abarca cámaras industriales compactas M42 y sistemas de visión de gran formato M58, lo que reduce los costos de integración y mejora la versatilidad del equipo.

•5.Uniformidad de iluminación excelente: desviación de irradiancia en todo el campo ≤±2,5%, imagen estable en materiales de alta reflexión como lámina de cobre, obleas de silicio y sustratos de vidrio.

Aplicaciones principales

•Industria de baterías de litio: inspección de defectos en lámina de electrodo, separador y recubrimiento

•Fotovoltaica y semiconductores: detección de microgrietas en obleas, defectos superficiales y dimensiones

•Impresión de alta precisión: monitoreo de calidad en línea de film, laminado e impresión antifalsificación

•Piezas mecánicas: inspección de planitud, tolerancia de orificio y textura superficial

•Clasificación inteligente de materiales e investigación de visión de alta precisión en laboratorio